横断位T1WI C示第四脑室不均匀强化肿块，其内见多发小囊变区，矢状位示病灶见分叶，T2WI呈高信号；矢状位T1WI C示第四脑室不均质肿块灶沿四脑室孔延伸
横断位T1WI示左侧脑桥臂见一混杂等-低信号病灶，T2WI呈不均匀高信号，T1WI C示不均匀强化
横断位T1WI示小脑蚓部等-高信号混杂肿块，注意梗塞性脑积水的出现
横断位T2WI示一混杂信号肿块，中心为低信号，外周为高信号
横断位及矢状位T1WI C示小脑蚓部肿块轻度强化
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CT表现颇多变异，可类似于星形细胞瘤，也可具有某些胶质母细胞瘤的特征，平扫多表现为不规则低、等混杂密度，钙化少见，边界不清，占位效应明显，与星形细胞瘤相比瘤周水肿程度较重。增强后多呈程度不等的强化，少数不强化。
T1WI可见等、低混杂信号，T2WI和FLAIR像为不均匀的高信号，钙化、出血、囊变罕见，增强扫描可有局灶性、结节性、环形或斑片状强化，邻近病变的脑膜可因浸润而肥厚。
颅内转移瘤常为多发（70%～80%），多位于皮质髓质交界处，也可见于脑膜和颅骨；肿瘤多位于幕上（80%）大脑中动脉供应区，幕下占20%。以额叶最多见，顶叶次之。有部分颅内转移瘤患者找不到原发灶（10%～15%），即使脑转移瘤术后仍不能确定肿瘤来源。
1.CT表现：
①常位于大脑半球的皮质下区，呈类圆形60%-70%为多发病灶。
②平扫呈等密度、低密度或高密度，若为较大的低密度病灶，常可见等密度的外壁。
③增强扫描时病灶呈中等至明显强化，多发结节强化较均一，较大的病灶可呈环状强化，环壁较厚且不均匀。
④瘤周围水肿严重，特别是顶叶，瘤体很小而水肿范围却很大。典型水肿呈指状分布。
⑤占位效应明显。
2.MR表现：
①病变多见于皮髓质交界处，亦可局限于脑白质内，常为多发。
②病变形态多样，可为结节状或囊实相间的肿块;T1加权为低或略低信号，T2加权为较高信号影。
③瘤周水肿明显;但4mm以下的小结节周围常无水肿。
④增强后，呈结节状、环状或点状强化。边缘与周围界限清晰。
